由于鈦陽(yáng)極在使用過(guò)程中，陽(yáng)極反應會(huì )產(chǎn)生氧氣，因此氧氣的產(chǎn)生會(huì )形成陰陽(yáng)極之間的屏蔽效應，并對放電均勻性造成一定的影響。氧氣更多是影響于垂直電鍍線(xiàn)上，這主要是由于產(chǎn)生的氧氣氣泡會(huì )上浮，導致陽(yáng)極上部和下部累積的氧氣氣泡量形成了一定的梯度，從而造成屏蔽效果，也呈現了一定的梯度效應。

　　要平衡氧氣氣泡的屏蔽作用對電鍍均勻性的影響，一方面可以改變陽(yáng)極的設計方式，采用水平式電鍍的方式，這樣就可以從根本上避免氣泡上浮造成的陽(yáng)極各部分屏蔽作用的差異（水平式電鍍的設備結構會(huì )比垂直式更為復雜，同時(shí)也并不是所有產(chǎn)品都適應水平式的電鍍方式）；另一方面，在垂直電鍍線(xiàn)上，可以通過(guò)改變陽(yáng)極導電性設計，以及安裝陽(yáng)極屏蔽板等多種方式來(lái)對沖其影響，從而改善由氧氣氣泡帶來(lái)的負面影響。

　　總而言之，氣泡的屏蔽效應是設備設計中一個(gè)不能忽視的因素，尤其是對于垂直電鍍線(xiàn)，設備廠(chǎng)商可以針對這個(gè)影響因素做出相應的考慮，特別是如果今后對于電鍍均勻性提出更高要求，任何影響電鍍均勻性的因素應當都需要納入考慮范圍。